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工信部公開推廣兩款國產(chǎn)DUV光刻機(jī)!最小套刻≤8nm!多只光刻機(jī)概念股走強(qiáng)

每日經(jīng)濟(jì)新聞 2024-09-19 13:27:09

每經(jīng)記者 朱成祥    每經(jīng)編輯 孫志成 梁梟    

9月9日,工信微報(bào)微信公眾號(hào)發(fā)文披露《首臺(tái)(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024年版)》。其中,在電子專用設(shè)備一欄,氟化氪光刻機(jī)、氟化氬光刻機(jī)位列其中。該資料顯示,氟化氬光刻機(jī)具有65納米以下的分辨率和8納米以下的套刻精度。

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據(jù)東興證券研報(bào),光刻機(jī)可分為直寫光刻機(jī)與掩膜光刻機(jī),市場主流有i-Iine(汞線)、KrF(氟化氪)、ArF(氟化氬)、ArFi(浸潤式氟化氬)、EUV(極紫外)五大類。

此次入選推廣目錄的氟化氬光刻機(jī),應(yīng)屬于干式ArF光刻機(jī)。在具體指標(biāo)上,與ASML旗下TWINSCAN NXT:1470以及TWINSCAN XT:1460K類似。

按照市場監(jiān)管總局等5部門于今年4月聯(lián)合印發(fā)的《中國首臺(tái)(套)重大技術(shù)裝備檢測評(píng)定管理辦法(試行)》,重大技術(shù)裝備是國之重器,事關(guān)綜合國力和國家安全。中國首臺(tái)(套)重大技術(shù)裝備,是指國內(nèi)實(shí)現(xiàn)重大技術(shù)突破、擁有知識(shí)產(chǎn)權(quán)、尚未取得明顯市場業(yè)績的裝備產(chǎn)品,包括整機(jī)設(shè)備、核心系統(tǒng)和關(guān)鍵零部件等。

CFF20LXzkOwNfsay86cib4p0S2T0NfBIZicSMl7tYnKBaibmLibs8uIQI1mZYasibU5KFf6wlMM5EENdMic3ibFTHCmUw.png國產(chǎn)光刻機(jī)實(shí)力幾何?

據(jù)工信微報(bào)發(fā)文,此次指導(dǎo)目錄是為促進(jìn)首臺(tái)(套)重大技術(shù)裝備創(chuàng)新發(fā)展和推廣應(yīng)用,加強(qiáng)產(chǎn)業(yè)、財(cái)政、金融、科技等國家支持政策的協(xié)同

具體來看,氟化氪光刻機(jī)晶圓直徑為300mm(12英寸);照明波長為248mm;分辨率≤110nm;套刻≤25nm。

相比之下,阿斯麥(ASML)的氟化氪光刻機(jī)型號(hào)有TWINSCAN NXT:870、TWINSCAN XT:860N和TWINSCAN XT:860M。這三個(gè)型號(hào),波長均為248mm;分辨率≤110nm。

而指導(dǎo)目錄中更為先進(jìn)的氟化氬光刻機(jī),其照明波長為193mm,分辨率≤65nm;套刻≤8nm。

這一數(shù)據(jù)與ASML旗下TWINSCAN XT:1460K最為接近。該型號(hào)照明波長為193mm,分辨率≤65nm。此外,該系統(tǒng)可以在偏振照明下實(shí)現(xiàn)低至57nm的生產(chǎn)分辨率。

相比之下,ASML浸潤式光刻機(jī)TWINSCAN NXT 1980Fi分辨率≤38nm。據(jù)民生證券研報(bào),該型號(hào)可實(shí)現(xiàn)2.5nm的套刻精度(MMO)。

據(jù)東海證券援引ASML官網(wǎng)數(shù)據(jù),2023年各類光刻機(jī)均價(jià)為EUV(17386萬歐元)、ArFi(7196萬歐元)、ArFdry(2742萬歐元)、KrF(1192萬歐元)、i-Iine(399萬歐元)。

東海證券認(rèn)為,目前光刻機(jī)國產(chǎn)化率僅為2.5%,整機(jī)技術(shù)與海外差距較大,短期5~10年內(nèi)一方面重點(diǎn)發(fā)展90nm、28nm光刻機(jī)的研發(fā)量產(chǎn)較為關(guān)鍵,一方面重點(diǎn)布局國內(nèi)半導(dǎo)體零組件發(fā)展。

CFF20LXzkOwNfsay86cib4p0S2T0NfBIZicSMl7tYnKBaibmLibs8uIQI1mZYasibU5KFf6wlMM5EENdMic3ibFTHCmUw.png光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈亟須發(fā)展

東海證券稱,根據(jù)中國國際招標(biāo)網(wǎng)信息,半導(dǎo)體設(shè)備招標(biāo)中,刻蝕、沉積等核心設(shè)備的國產(chǎn)化率獲得了較大的提升,核心在于技術(shù)上我國相關(guān)企業(yè)已經(jīng)逐步追趕上海外企業(yè);但光刻機(jī)作為核心設(shè)備,國產(chǎn)化率不足3%,核心原因在于零組件供應(yīng)與整機(jī)技術(shù)與海外差距較大。

9月18日,東方財(cái)富概念板塊中,光刻機(jī)(膠)板塊排名靠前,板塊整體漲幅達(dá)2.47%。其中,同飛股份、波長光電均收獲“20厘米”漲停;新萊應(yīng)材上漲12.40%。此外,張江高科、海立股份、凱美特氣等也漲停。

9月19日,光刻機(jī)概念持續(xù)活躍,凱美特氣、海立股份雙雙漲停,張江高科漲超6%,波長光電、京華激光、蘇大維格等跟漲。

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張江高科受關(guān)注,主要因?yàn)槠湓顿Y上海微電子公司。張江高科于9月10日在投資者交流平臺(tái)表示,公司通過子公司上海張江浩成創(chuàng)業(yè)投資有限公司投資了上海微電子公司2.23億元,持有上海微電子10.779%的股權(quán),后續(xù)未增持或減持。

東興證券稱,國內(nèi)企業(yè)中,上海微電子是目前中國第一家也是唯一家光刻機(jī)巨頭,出貨量已占國內(nèi)市場份額超過80%,產(chǎn)品主要涉及ArF、KrF和i-line領(lǐng)域,其已具備90nm及以下的芯片制造能力。

光刻機(jī)零部件方面,同飛股份曾在2023年中報(bào)表示,其液體恒溫設(shè)備在半導(dǎo)體制造設(shè)備領(lǐng)域,主要應(yīng)用于光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、研磨拋光機(jī)等關(guān)鍵設(shè)備的溫度控制。

不過,根據(jù)東興證券研報(bào),光刻機(jī)核心組件包括光源系統(tǒng)、雙工作臺(tái)、物鏡系統(tǒng)、對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)、浸沒系統(tǒng)、光柵系統(tǒng)等。配套設(shè)施包括光刻膠、掩膜版、涂膠顯影等。

光源系統(tǒng)方面,據(jù)華金證券,針對(duì)準(zhǔn)激光光源,科益虹源主要研發(fā)248nm準(zhǔn)分子激光器、干式193nm準(zhǔn)分子激光器等;福晶科技研發(fā)KBBF晶體。

另據(jù)東興證券,波長光電為國內(nèi)激光光學(xué)元件的主要供應(yīng)商,目前,公司已具備提供光刻機(jī)配套的大孔徑光學(xué)鏡頭的能力,公司成功開發(fā)的光刻機(jī)平行光源系統(tǒng)可用于國產(chǎn)光刻機(jī)領(lǐng)域配套。

波長光電也曾于2023年9月15日披露投資者活動(dòng)記錄表稱,公司在半導(dǎo)體領(lǐng)域主要涉及兩個(gè)領(lǐng)域:一個(gè)是生產(chǎn)領(lǐng)域,即曝光機(jī)、光刻,公司可提供大口徑光學(xué)鏡頭用于檢測,做折反、投射,還可以提供平行光源系統(tǒng);另一個(gè)是檢測領(lǐng)域,公司可提供檢測設(shè)備上的光學(xué)元件、組件,也可為客戶定制開發(fā)、裝調(diào)子系統(tǒng)。

物鏡系統(tǒng)方面,東興證券稱,茂萊光學(xué)光刻機(jī)曝光物鏡超精密光學(xué)元件加工技術(shù)已實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化。

東海證券研報(bào)顯示,中國2023年進(jìn)口光刻機(jī)數(shù)量高達(dá)225臺(tái),進(jìn)口金額高達(dá)87.54億美元,進(jìn)口金額創(chuàng)下歷史新高,預(yù)計(jì)3年至5年內(nèi)我國光刻機(jī)主要依賴進(jìn)口。一臺(tái)先進(jìn)的光刻機(jī)有多達(dá)10萬個(gè)零部件,整體來看我國半導(dǎo)體零組件的國產(chǎn)化率非常低,盡管在各個(gè)賽道均有相關(guān)的國有企業(yè)在不斷發(fā)展,距離海外企業(yè)依然有較大的差距,同時(shí)也預(yù)示著國內(nèi)零組件企業(yè)公司有較大的發(fā)展機(jī)遇。

免責(zé)聲明:本文內(nèi)容與數(shù)據(jù)僅供參考,不構(gòu)成投資建議,使用前請核實(shí)。據(jù)此操作,風(fēng)險(xiǎn)自擔(dān)。

記者|朱成祥

編輯|||孫志成?梁梟?杜波

校對(duì)|何小桃

封面圖自視覺中國(圖文無關(guān))

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